ASML 로고. (사진=SNS)

ASML은 벨기에의 이멕과 실험실을 오픈한다. 

ASML은 3일(현지시간) 벨기에 칩 연구 회사인 이멕과 함께 하이 NA EUV 리소그래피 장비에 대한 테스트 실험실을 개설했다고 밝혔다. 

이 연구소는 수년간의 노력 끝에 완성됐으며 선도적인 칩 제조업체 및 다른 장비 및 소재 공급업체들에게 이 3억 5천만 유로(3억 8천만 달러) 규모의 최초의 장비를 조기에 사용해볼 기회를 제공할 예정이다. 

새로운 하이 NA 도구는 최대 60% 더 나은 해상도를 제공하며 더 작고 빠른 칩의 새로운 세대로 이끌 것으로 기대된다.

ASML은 칩 제조 공정 중 핵심 단계인 리소그래피 장비 시장을 지배하고 있다. 

하이 NA EUV. (사진=ASML)

칩 제조사 중에서는 TSMC, 삼성,  인텔, 그리고 메모리 전문 업체인 SK하이닉스와 삼성만이 ASML의 현재 세대 극자외선 또는 EUV 기계를 사용해 제조할 수 있다. 

ASML은 고객이 2025-2026년에 이 도구를 사용해 상업 생산을 시작할 것으로 예상한다고 말했다. 

ASML은 현재까지 미국 인텔에 다른 시험기 한 대만 출하했는데, 인텔은 2025년 14A 공정에서 이 도구를 사용할 계획이다.

반면, ASML은 12개 이상의 주문을 받았으나 EUV 장비 최대 고객사인 TSMC는 2025년 생산에 들어갈 A16 칩에 대해 하이 NA 도구를 사용할 필요가 없다고 밝혔다.